反应磁控溅射法制备Y2O3金刚石红外减反膜

• 作者: 吕反修 唐伟忠 王耀华 贺琦 郭会斌 魏俊俊
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: Y2O3薄膜 反应磁控溅射法 红外透过率 减反射
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 10-14,18
• 页数: 6页
• 分类号: TQ164
• 字数: 4133字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2008.03.003

摘要

采用纯钇(Y)金属靶,在氧+氩反应气氛中进行了Y2O3薄膜直流反应磁控溅射沉积.研究了工艺参数改变对薄膜的影响,选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜,达到增透减反射效果.利用X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)研究了薄膜的组成和结构.利用X射线衍射仪(GIXRD)和椭偏仪(Ellipsometer)研究了不同衬底温度和热处理温度对氧化钇薄膜组织结构和光学性能的影响.采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能.研究发现Y2O3薄膜能够有效提高金刚石在8～12 μm的红外透过性能,在8 μm处最大增透可达21.8%,使金刚石红外透过率由66.4%提高到88.2%;在3～5 μm范围,双面镀制了Y2O3薄膜的金刚石平均透过率达64.9%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54%高出10.9%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	魏俊俊	北京科技大学材料科学与工程学院	32	112	5.0	9.0
3	贺琦	北京科技大学材料科学与工程学院	11	87	5.0	9.0
4	郭会斌	北京科技大学材料科学与工程学院	6	65	4.0	6.0
5	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
6	王耀华	北京科技大学材料科学与工程学院	7	24	4.0	4.0