低温多晶硅薄膜的制备评述

• 作者: 杨军 杨定宇 蒋孟衡
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 低温多晶硅薄膜 金属诱导横向晶化 准分子激光晶化 电感耦合等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 热点评述
• 页码范围: 298-301
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 4113字
• 语种: 中文

摘要

低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS-TFT)驱动技术是实现大尺寸全彩平板显示的必由之路.然而,传统的低温多晶硅薄膜制作工艺存在着工序复杂、薄膜均匀性差、可能有金属污染且造价昂贵等问题.因此,有必要研发新一代的低温多晶硅薄膜制备工艺以期进一步提高薄膜质量,降低驱动成本.本文首先介绍了金属诱导横向晶化法(MILC)和准分子激光晶化法(ELA)制备低温多晶硅薄膜的原理,分析了两者各自的优缺点.接着,重点阐述了电感耦合等离子体化学气相沉积法(ICP-CVD)的工作原理和特点,并介绍了目前ICP-CVD在低温多晶硅薄膜制备上所取得的进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨定宇	成都信息工程学院光电技术系	39	148	6.0	9.0
2	蒋孟衡	成都信息工程学院光电技术系	23	149	8.0	11.0
3	杨军	成都信息工程学院光电技术系	15	56	5.0	7.0