不同N2气流量比反应溅射TiN薄膜的表面形貌分形特征

• 作者: 雒向东
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 材料 表面形貌 分形理论 薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 346-350
• 页数: 5页
• 分类号: TN104.2|TB43
• 字数: 3945字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2008.03.018

摘要

采用反应磁控溅射工艺通过改变N<,2气流量比在Si衬底上沉积300nm厚TiN薄膜.用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,并根据分形理论予以定量表征.结果表明:TiN薄膜的溅射模式与分形维数D<,f>值的演化存在相关性.当N<,2气流量比由O.0%增加至4.0%时,TiN薄膜的溅射方式属于金属模式,D<,f>保持不变;当N<,2气流量比继续增加至10.0%时,薄膜溅射方式转变为过渡模式,此时D<,f>急剧减小;而当N<,2气流量比超过10.0%以后,薄膜溅射模式改变为氮化物模式,相应的D<,f>轻微增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雒向东	兰州城市学院培黎工程技术学院	30	121	7.0	9.0