反应磁控溅射法制备Zn3 N2薄膜的工艺研究

• 作者: 付刚 孙舒宁 张秀全 王凤翔 陈志华
• 来源期刊: 山东建筑大学学报
• 关键词: 磁控溅射技术 Zn3N2 薄膜 衬底 择优取向
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 47-52
• 页数: 6页
• 字数: 4231字
• 语种: 中文

摘要

制备和研究高质量的Zn3 N2薄膜有助于拓展新型薄膜材料体系。文章采用反应磁控溅射技术，研究不同的溅射功率、N2-Ar流量比、衬底类型和衬底温度等沉膜工艺对Zn3 N2薄膜结晶质量的影响；采用XRD、SEM和AFM等测试手段，分析Zn3 N2薄膜的微结构和表面形貌。结果表明：几种衬底上，以石英玻璃作衬底沉积的Zn3 N2薄膜晶粒尺寸较大，衍射峰较强，且为多晶向薄膜；当N2-Ar流量比提高时，Zn3 N2薄膜为单一择优取向的结晶薄膜；衬底温度升高后，Zn3 N2薄膜晶粒尺寸减小，但是单一择优取向不变；溅射功率提高后，薄膜晶粒尺寸增大，择优取向改变，由单一晶向变为多晶向，以<100>晶向单晶硅作衬底可获得单一晶向Zn3 N2薄膜，而以<111>单晶硅作衬底制备的Zn3 N2薄膜经XRD测试，未检测到Zn3 N2晶体。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王凤翔	山东建筑大学理学院	16	48	4.0	5.0
2	陈志华	山东建筑大学理学院	6	13	2.0	3.0
3	付刚	山东建筑大学理学院	12	40	3.0	5.0
4	孙舒宁	山东建筑大学理学院	4	7	2.0	2.0
5	张秀全	山东建筑大学理学院	2	6	2.0	2.0