真空紫外光学薄膜及薄膜材料

• 作者: 范正修 薛春荣 邵建达
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 真空紫外 金属Al膜 氧化物 氟化物
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 激光技术
• 页码范围: 57-64
• 页数: 8页
• 分类号: TB43
• 字数: 4666字
• 语种: 中文

摘要

概述了真空紫外(VUV)波段光学薄膜及薄膜材料的研究进展,金属Al膜因到短至80nm还能提供较高的反射率而得到普遍关注,在高真空和30 nm/s左右沉积速率下沉积了保护层的金属Al膜在157 nm处反射率可达90%.介质氧化物薄膜机械应力小,环境稳定性比氟化物薄膜好,在190 nm以上波段应用较广泛,但在180 nm以下波段吸收大大增加而应由氟化物薄膜取代.氟化物薄膜带宽大、吸收系数小,沉积了致密SiO2保护层的氟化物高反膜,在中心波长180 nm处可得到接近99%的反射率,而且膜系的稳定性和抗激光损伤也大大提高.氟化物减反膜在157 nm处可得到0.1%以下的反射率;到目前为止氟化物薄膜最好的沉积工艺是电阻热蒸发.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	薛春荣	中国科学院上海光学精密机械研究所	16	137	7.0	11.0