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OPC将掩膜光刻机扩展到65/45纳米
OPC将掩膜光刻机扩展到65/45纳米
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摘要：
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光刻机掩膜台微动台调平控制系统设计
三自由度调平控制
DSP TMS320C6414
掩膜台
光刻机
PMAC运动控制器在光刻机控制系统中的应用
可编程多轴运动控制器
光刻机
可编程序控制器
基于PMAC的光刻机隔振试验台控制系统的设计
开放式数控系统
PMAC
运动控制器
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期刊影响力
集成电路应用
主办单位：
上海贝岭股份有限公司
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-2583
CN：
31-1325/TN
开本：
16开
出版地：
上海宜山路810号
邮发代号：
创刊时间：
1984
语种：
chi
出版文献量（篇）
4823
总下载数（次）
15
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