非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究

• 作者: 冯磊 周圣明 林辉 汪洪 滕浩 罗士雨 黄涛华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 非晶硅 多晶硅
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 页码范围: 1191-1194
• 页数: 4页
• 分类号: O78
• 字数: 1888字
• 语种: 中文

摘要

用磁控溅射法在K9玻璃上沉积了非晶硅(a-Si)膜和a-Si/Al膜,并将其在流动的N2气氛下进行退火.对退火前后的样品进行Raman光谱、XRD和SEM表征和分析.Raman光谱表明随着退火温度的升高,a-Si膜的散射峰出现了明显的蓝移,但XRD结果表明薄膜仍为非晶态;而a-Si/Al膜在温度很低时就已经开始晶化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯磊	中国科学院上海光学精密机械研究所	29	319	9.0	17.0
3	黄涛华	中国科学院上海光学精密机械研究所	7	37	3.0	6.0
4	林辉	中国科学院上海光学精密机械研究所	25	276	11.0	16.0
5	滕浩	中国科学院上海光学精密机械研究所	29	96	5.0	9.0
6	汪洪	安徽大学物理与材料科学学院	26	123	7.0	10.0
9	罗士雨	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	21	1.0	2.0