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摘要:
采用HWCVD技术在p型CZ晶体硅衬底上制备了纳米硅/晶体硅异质结太阳电池,测量了晶体硅表面在不同氢处理时间下的异质结的暗Ⅰ-Ⅴ特性和相应的电池性能参数.室温下的正向暗Ⅰ-Ⅴ特性采用双二极管模型来拟合,可将0~1V的电压范围区分为4个区域:旁路电阻(0~0.15V)、非理想二极管2(0.15~0.3V)、理想二极管1(0.3~0.5V)和串联电阻(>0.5V).拟合结果表明,适当的氢处理时间(~30s)可有效降低非理想二极管的理想因子n2,即降低界面复合电流,表明具有好的界面特性.对于282~335K的暗Ⅰ-Ⅴ温度特性的研究表明,在0.15~0.3V的低电压范围,暗电流主要由耗尽区的复合电流提供,0.3~0.5V电压范围,对输运起主要作用的是隧穿过程,该过程可用通过界面陷阱能级的隧穿模型来解释.
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文献信息
篇名 纳米硅/晶体硅异质结电池的暗Ⅰ-Ⅴ特性和输运机制
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 纳米硅薄膜 异质结电池 暗电流-电压特性 输运机制
年,卷(期) 2008,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 549-553
页数 5页 分类号 O475
字数 3778字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.03.028
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘丰珍 中国科学院研究生院物理科学学院 17 105 4.0 10.0
2 崔介东 中国科学院研究生院物理科学学院 1 4 1.0 1.0
3 张群芳 中国科学院研究生院物理科学学院 3 29 2.0 3.0
4 朱美芳 中国科学院研究生院物理科学学院 11 98 4.0 9.0
5 周玉琴 中国科学院研究生院物理科学学院 11 46 4.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
纳米硅薄膜
异质结电池
暗电流-电压特性
输运机制
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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