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摘要:
采用射频-等离子体辅助化学气相沉积(RF-PECVD)法在硅片、玻璃上生长类金刚石薄膜.通过Raman光谱、AFM等测试手段,研究不同的生长工艺条件下类金刚石薄膜的性质的变化.实验表明,RF-PECVD生长DLC膜,在上方电极处以及较低功率下可获得较高sp3含量的薄膜.
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sp2组分
XPS
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文献信息
篇名 含氢类金刚石薄膜的生长及表征
来源期刊 光谱实验室 学科 化学
关键词 类金刚石薄膜 拉曼光谱 等离子体增强化学气相沉积.
年,卷(期) 2008,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 462-464
页数 3页 分类号 O657.37|O484.5
字数 1675字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-8138.2008.03.046
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈明文 厦门大学物理系 1 2 1.0 1.0
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节点文献
类金刚石薄膜
拉曼光谱
等离子体增强化学气相沉积.
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光谱实验室
双月刊
1004-8138
11-3157/O4
16开
北京市高梁桥斜街13号院35号楼204室
82-863
1984
chi
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