电子束蒸发法制备掺钇稳定氧化锆薄膜的光学特性研究

• 作者: 李朝阳 杨永军 赵俭 邢光建 陈强
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: YSZ薄膜 退火 表面粗糙度 激光破坏阈值
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 673-677
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3327字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.06.16

摘要

利用电子束蒸镀方法在单晶硅和石英玻璃上制备了掺不同Y_2O_3浓度的掺钇稳定ZrO_2薄膜(YSZ),用X射线衍射、原子力显微镜、扫描电子显微镜和透射光谱测定薄膜的结构、表面特性和光学性能,研究了退火对薄膜结构和光学性能的影响.结果表明:一定浓度的Y_2O_3掺杂可以使ZrO_2薄膜稳定在四方相,退火显著影响薄膜结构,随着温度的升高薄膜结构依次经历由非晶到四方相再到四方和单斜混合相转变;AFM分析显示薄膜表面YSZ颗粒随着退火温度的升高逐渐增大,表面粗糙度相应增大,晶粒大小计算表明,退火温度的提高有助于薄膜的结晶化,退火温度从400℃到1100℃变化范围内晶粒大小从15.6nm增大到46.3nm;同时利用纳秒激光对薄膜进行了破坏阈值测量,结果表明电子束蒸镀制备YSZ薄膜是一种制备高抗激光损伤镀层的有效方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院等离子体实验室	125	542	10.0	17.0
2	杨永军		11	116	5.0	10.0
3	李朝阳	中国科学院理化技术研究所激光物理与技术中心	61	1808	24.0	41.0
5	邢光建	北京石油化工学院材料科学与工程系	30	127	6.0	11.0
8	赵俭		9	82	4.0	9.0