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离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结I-V、RD-V特性的研究(上)
离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结I-V、RD-V特性的研究(上)
作者:
何波
史衍丽
孟夏杰
徐静
李凤
沈玲
赵磊
马忠权
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
HgCdTe
环孔pn结
I-V特性
动态电阻
表面漏电流
摘要:
本文推导了一种可简便、准确、直观计算和分析pn结I-V特性的公式和方法,并应用该方法对两类典型HgCdTe环孔pn结的I-V、RD-V特性进行了计算和拟合;得到了表面欧姆(反型沟道)漏电导、二极管理想因子n随电压的分布等反映二极管结特性的重要参数.计算结果表明,对于长波HgCdTe光伏器件而言,表面漏电流在整个暗电流中所占的比重相当大,表面漏电流严重地制约着器件性能.HgCdTe材料的晶体缺陷会使二极管的理想因子n增大,从而使产生-复合电流及陷阱辅助隧穿电流增加.
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文献信息
篇名
离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结I-V、RD-V特性的研究(上)
来源期刊
红外
学科
工学
关键词
HgCdTe
环孔pn结
I-V特性
动态电阻
表面漏电流
年,卷(期)
2009,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1-7
页数
7页
分类号
TN2
字数
3122字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-8785.2009.01.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
史衍丽
41
372
8.0
18.0
2
何波
上海大学理学院物理系
4
6
2.0
2.0
3
马忠权
上海大学理学院物理系
25
87
5.0
8.0
4
徐静
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
11
43
3.0
6.0
5
赵磊
上海大学理学院物理系
11
55
3.0
7.0
6
李凤
上海大学理学院物理系
6
19
2.0
4.0
7
沈玲
上海大学理学院物理系
10
23
2.0
4.0
8
孟夏杰
上海大学理学院物理系
3
8
2.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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节点文献
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同被引文献
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研究主题发展历程
节点文献
HgCdTe
环孔pn结
I-V特性
动态电阻
表面漏电流
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外
主办单位:
中国科学院上海技术物理研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-8785
CN:
31-1304/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市玉田路500号
邮发代号:
4-290
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
3030
总下载数(次)
11
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