脉冲直流磁控溅射技术在光盘生产中的应用研究

• 作者: 李峰 陈峥
• 来源期刊: 记录媒体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 氮化硅 工艺方案 材料薄膜 射频溅射 应用研究 靶材 盘片 电弧放电 刻录机
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TQ595

摘要

脉冲直流磁控溅射技术兼有射频溅射和磁控溅射的优点,尤其在制备低溅射率的材料薄膜上,更体现良好的性价比,是一种低成本的工艺方案,目前在DVD DL和BD上都有了可靠的生产工艺方案。本文将对脉冲直流磁控溅射技术在光盘生产工艺上的应用进行介绍。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈峥		3	0	0.0	0.0
2	李峰		4	0	0.0	0.0