两步生长法制备大面积HFCVD金刚石薄膜

• 作者: A. Amorim P. A. P. Nascente V.J. Trava-Airoldi
• 来源期刊: 工业金刚石
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉积(HFCVD) 金刚石 两步生长法 大面积
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TG135.5

摘要

本文报道了一种利用两步热丝化学气相沉积法来提高金刚石薄膜质量的方法，在Si（100）基体上获得了面积45cm^2、厚度60μm的金刚石薄膜。第一步是在HFCVD反应室生长CVD金刚石薄膜，第二步是利用H2SO4：CrO3的饱和溶液对样品进行处理，再用H2O2：NH4OH（1：1）溶液冲洗干净，处理之后再沉积第二层金刚石薄膜。利用SEM、拉曼光谱、XPS分析金刚石薄膜。结果表明，薄膜厚度达60μm，纯度很高，并且在整个面积上是均匀的。