光学薄膜激光预处理能量密度选取

• 作者: 夏志林 杨芳芳 薛亦渝 赵元安 邵建达 郭培涛 黄才华
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学薄膜 损伤概率 激光预处理 损伤阈值
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 560-565
• 页数: 6页
• 分类号: TN246
• 字数: 5124字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS20082902.0560

摘要

采用Nd∶YAG三倍频激光对光学薄膜进行了预处理.实验发现三倍频激光预处理对薄膜的抗激光损伤能力有明显的影响,影响规律比较复杂,归纳得出合适激光预处理能量密度与测试激光能量密度有关.理论上借助杂质诱导薄膜损伤的概率统计模型,从激光预处理引起的激光微区退火以及形成微尺寸损伤两个主要方面着手,很好地解释了复杂的实验现象.总体上看,预处理激光能量密度低于激光退火所需临界能量密度时,预处理效果以负作用为主;预处理激光能量密度高于激光退火所需临界能量密度,且低于激光诱导薄膜微损伤所需临界能量密度时,预处理效果以改善薄膜抗激光损伤能力为主,预处理激光能量密度要尽量选在这个范围内;预处理激光能量密度高于激光诱导薄膜微损伤所需临界能量密度时,预处理效果同样以负作用为主.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏志林	武汉理工大学材料科学与工程学院	29	159	7.0	12.0
2	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
3	黄才华	武汉理工大学材料科学与工程学院	14	136	6.0	11.0
4	薛亦渝	武汉理工大学材料科学与工程学院	48	532	13.0	21.0
5	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0
6	郭培涛	武汉理工大学材料科学与工程学院	20	74	5.0	8.0
7	杨芳芳	武汉理工大学材料科学与工程学院	5	20	3.0	4.0