不同调制周期Cu/TaN多层膜的微结构与表面形貌

• 作者: 赵海阔 雒向东
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光电子学 Cu/TaN 多层膜 调制周期 表面形貌
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 102-106
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|TG84
• 字数: 3829字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2009.01.018

摘要

采用磁控溅射方法在Si(111)基底上沉积不同调制周期的Cu/TaN多层膜,用X射线衍射仪(XRD)与原子力显微镜(AFM)表征薄膜微结构与表面形貌,研究了不同调制周期L薄膜的微结构与表面形貌.结果表明:不同L的TaN调制层均为非晶结构,多晶Cu调制层的晶粒取向组成随着L改变而变化; Cu调制层的表面粗糙度Rrms.大于TaN调制层的Rrms;与Cu单层膜相比,最外层为Cu调制层的Cu/TaN多层膜的Rrms较小;与TaN单层膜相比,最外层为TaN调制层的Cu/TaN多层膜的/Rrms较大;随着L增加,多层膜与对应的单层膜之间的兄Rrms差值逐渐减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雒向东	兰州城市学院培黎工程技术学院	30	121	7.0	9.0
2	赵海阔	兰州城市学院培黎工程技术学院	19	124	7.0	11.0