Ni/AAO纳米复合薄膜的制备及其光学性能

• 作者: 曹宏 李承勇 王学华 马连姣
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 交流电化学沉积 多孔氧化铝模板 光学带隙 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2274字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.03.012

摘要

采用交流电化学沉积方法,以经过阶梯降压处理的多孔氧化铝(AAO)为模板,制备出Ni/AAO纳米复合薄膜.研究了薄膜的结构及光学性能.结果表明:Ni/AAO纳米复合薄膜中Ni呈线状均匀分布在AAO纳米孔隙中,直径与AAO孔径一致,约80 nm,并沿[111]方向择优生长,具有面心立方结构.光谱分析表明,该复合薄膜的光学带隙为3.18 eV,较AAO模板(3.38 eV)自身红移;光致发光峰位于465 nm,与AAO模板相同,发光强度较模板自身减弱.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹宏	武汉工程大学材料科学与工程学院	74	348	11.0	14.0
5	王学华	武汉工程大学材料科学与工程学院	36	199	8.0	13.0
9	李承勇	武汉工程大学材料科学与工程学院	5	57	4.0	5.0
10	马连姣	武汉工程大学材料科学与工程学院	3	40	2.0	3.0