单晶6H-SiC纳米线的可控掺杂及光学特性

• 作者: 张立功 杨为佑 范翊 蒋大鹏 高凤梅
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: SiC 有机前驱体 热裂解 纳米线 掺杂 光学性质
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 材料物理和化学
• 页码范围: 804-808
• 页数: 5页
• 分类号: TB383.1
• 字数: 2651字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2009.06.006

摘要

采用有机前驱体制备纳米材料工艺,制备出不同Al掺杂浓度的6H-SiC纳米线(Al/6H-SiC).用HRTEM、EDX、XRD等对纳米线进行了表征,发现随着起始材料中异丙醇铝含量的增加,所制备的纳米线中的Al浓度也在增加,最高可达到1.25%, HRTEM显示晶格间距为0.26 nm和0.25 nm,对应为6H-SiC的(101)和(102)面间距,Si、C原子比为1∶1.拉曼光谱得到这种6H-SiC的声子能量为100 meV,由吸收光谱带边吸收外推计算得到Al/6H-SiC纳米线光学带隙,掺杂浓度越大,吸收边红移越大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范翊		2	12	2.0	2.0
2	张立功		2	8	2.0	2.0
3	高凤梅	宁波工程学院材料工程研究所	2	2	1.0	1.0
4	杨为佑	宁波工程学院材料工程研究所	3	2	1.0	1.0
5	蒋大鹏		1	2	1.0	1.0