基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在不同的基台脉冲负偏压下,利用微波-ECR等离子体化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜,利用傅立叶变换红外吸收光谱和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了表征,最后对薄膜的摩擦系数进行了测试.结果表明:制备的薄膜具有典型的含H类金刚石结构特征,薄膜致密均匀,表面粗糙度很小.随着负偏压的增大,红外光谱中2800-3000 cm-1波段的C-H伸缩振动吸收峰的强度先升高后降低,并在负偏压为200 V时达到最大;薄膜的摩擦系数而是先降低再升高,在负偏压为200 V时达到最小.
推荐文章
基体负偏压对类金刚石涂层结构和性能的影响
DC-PECVD
类金刚石
基体负偏压
结构
性能
金刚石薄膜负偏压形核的边缘效应
MPCVD
形核
金刚石膜
边缘效应
氢气流量对类金刚石薄膜结构与性能的影响
反应磁控溅射
类金刚石薄膜
氢气流量
X射线光电子能谱
厚膜
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 脉冲负偏压对沉积类金刚石薄膜结构和摩擦性能的影响
来源期刊 核技术 学科 工学
关键词 类金刚石薄膜 ECR 脉冲负偏压 结构和性能
年,卷(期) 2009,(6) 所属期刊栏目 低能加速器技术、射线技术及应用
研究方向 页码范围 427-430
页数 4页 分类号 TB43
字数 2602字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-3219.2009.06.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈强 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室 125 542 10.0 17.0
2 桑利军 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室 14 53 5.0 6.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (16)
共引文献  (16)
参考文献  (9)
节点文献
引证文献  (6)
同被引文献  (11)
二级引证文献  (5)
1980(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1983(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
1992(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1993(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1995(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1997(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1998(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2000(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2001(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2002(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2003(3)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(1)
2005(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2008(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2009(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2012(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2009(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2011(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2012(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2018(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2019(3)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(3)
2020(3)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
类金刚石薄膜
ECR
脉冲负偏压
结构和性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
核技术
月刊
0253-3219
31-1342/TL
大16开
上海市800-204信箱
4-243
1978
chi
出版文献量(篇)
4560
总下载数(次)
14
论文1v1指导