脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积

• 作者: 刘实 周德惠 季锡林 李依依 李军 李力 李建国 胡东平
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲偏压 金刚石薄膜 频率
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 开发与应用
• 页码范围: 40-42,45
• 页数: 4页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2715字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2004.04.011

摘要

由于直流偏压方法沉积金刚石薄膜易出现电荷积聚现象,从而影响了薄膜的均匀性.本文采用脉冲负偏压增强热丝化学气相沉积(HFCVD)法,以WC-Co硬质合金为衬底制备金刚石薄膜,探讨了在不同频率脉冲直流偏压(500～5000Hz)下,脉冲偏压对金刚石薄膜的均匀性、致密性和晶粒度的影响,并且讨论了脉冲偏压作用的机理.对沉积的金刚石薄膜进行SEM、XRD和Raman分析.结果表明,采用500Hz脉冲偏压可获得高质量的金刚石薄膜,薄膜的晶粒度小,均匀性和致密性较好.