热处理对电子束蒸发TiO2雕塑薄膜双折射性能的影响

• 作者: 肖秀娣 范正修 董国平 邓淞文 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 雕塑薄膜 倾斜沉积 双折射 相位延迟
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 2166-2170
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1|O484.4+1
• 字数: 1976字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20093608.2166

摘要

使用倾角电子束蒸发技术制备了TiO2雕塑薄膜,通过对雕塑薄膜在不同退火温度和退火时间下进行热处理,发现热处理工艺可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性能.实验结果表明,TiO2雕塑薄膜的最佳退火条件为500℃下处理4 h,其双折射值达0.115左右,远高于未处理时的最大双折射值(0.06).椭偏仪测试结果表明,最优条件下热处理后的薄膜,在550 nm处相位延迟量达90°,可以作为该波长处的λ/4波片使用.因此,热退火是改善雕塑薄膜双折射性能的一种简单实用的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	肖秀娣	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	34	4.0	5.0
7	董国平	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	23	3.0	4.0
11	邓淞文	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	6	1.0	1.0