电子束蒸发沉积金属-TiO2薄膜的结构和光学性质

• 作者: Rogachev A.V. 周兵 江晓红 沈瑞琪 陆路德
• 来源期刊: 南京理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2薄膜 锐钛矿 电子束蒸发 金属掺杂 禁带宽度 光催化
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 547-552
• 分类号: TB43|O484.4
• 字数: 4437字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9830.2010.04.027

摘要

采用电子束蒸发法在玻璃基底上制备了TiO2薄膜及Fe、Cu、Al掺杂TiO2膜,通过XRD、Raman光谱、XPS及AFM等测试手段研究了TiO2膜及金属-TiO2掺杂膜的结构、组成和形貌.金属掺杂量为1%,退火温度为773 K时,沉积得到的薄膜均为锐钛矿晶体结构的TiO2,掺杂金属的种类对薄膜的晶粒尺寸有一定的影响.采用紫外可见分光光度计测试薄膜的吸收光谱,掺杂后TiO2的吸收带边发生改变,薄膜对可见光的吸收明显加强.光催化降解甲基橙实验表明,制备的TiO2薄膜及其金属掺杂膜具有一定的光催化活性,且Fe-TiO2膜的降解效率较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈瑞琪	南京理工大学化工学院	171	1017	16.0	20.0
2	陆路德	南京理工大学化工学院	325	4808	33.0	56.0
3	江晓红	南京理工大学化工学院	16	112	7.0	10.0
4	周兵	南京理工大学化工学院	1	8	1.0	1.0