氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜

• 作者: 吴振辉 汪建华 谭必松 郑先锋 马志斌
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧等离子体 CVD金刚石膜 刻蚀机理
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2028字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2009.01.017

摘要

分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	马志斌	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	58	189	7.0	10.0
3	谭必松	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	6	29	3.0	5.0
4	吴振辉	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	6	23	3.0	4.0
5	郑先锋	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	2	12	2.0	2.0