CVD金刚石膜等离子体弧抛光的机理研究

• 作者: 周淑娟 张峻岭 武文斌 王帅强
• 来源期刊: 机械工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 CVD 等离子体弧 抛光 石墨化
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: [理论/研发/设计/制造]
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TG664
• 字数: 2633字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2333.2009.07.013

摘要

提出了一种利用等离子体弧抛光CVD金刚石膜的新工艺.通过试验,对其抛光机理作了初步探讨,并对试样进行了实际抛光.结果表明,用等离子体弧加工金刚石膜确实具有抛光效果.粗糙度的降低可以认为有两种机制;一种是熔点以下的氧化刻蚀、石墨化、石墨氧化和溅射,石墨化是关键的因素;另一种是熔点以上的熔化流动、爆炸抛出和弧柱的吹力作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武文斌	河南工业大学机电工程学院	103	314	8.0	13.0
2	周淑娟	河南工业大学机电工程学院	8	17	3.0	4.0
3	王帅强	河南工业大学机电工程学院	3	8	2.0	2.0
4	张峻岭	河南工业大学机电工程学院	4	43	3.0	4.0