射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征

• 作者: 汪建华 满卫东 熊礼威 王传新 王升高 谢鹏
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 射频等离子体 类金刚石薄膜 粗糙度 拉曼光谱 显微硬度
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2683字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2009.03.017

摘要

采用射频等离子体技术,以CH4和H2为反应气体,在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明,制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.492 nm;薄膜中含有sp2,sp3杂化键,具有典型的类金刚石结构特征;光学透过率比较高,薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.