单晶硅X射线反射率的量子计算

• 作者: 刘苹
• 来源期刊: 科技创新导报
• 学科: 工学
• 关键词: X射线 频率 跃迁几率
• 年，卷（期）: 2009,（20）
• 所属期刊栏目: 学术论坛
• 页码范围: 225-226
• 页数: 2页
• 分类号: TN4
• 字数: 2076字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-098X.2009.20.182

摘要

本文用量子力学中的微扰理论分析X射线与电子相互作用原理.发现:X射线进入晶体中,电子吸收X射线后跃迁几率不仅仅与入射光频率有关,而且与电子在原子中空间位置以及状态有关,也与X射线原子之间的距离有关.只有当三者满足一定的关系时,才能获得比较好的反射强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘苹		1	0	0.0	0.0