磁约束磁控溅射源的工作特性测试

• 作者: 弥谦 袁建奇 雷琳娜
• 来源期刊: 西安工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁约束 磁控溅射源 靶源特性测试 靶材利用率
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 光电工程
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 1574字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9965.2010.01.005

摘要

为了提高靶材利用率,将磁约束原理应用在磁控溅射技术中,设计了一款直流矩形平面磁控溅射源.测量了磁约束磁控溅射源原理样机靶面磁场强度,研究了不同工作真空度下的伏安特性以及磁控溅射电源工作在不同模式下靶电压与工作真空度之间的关系,确定了磁控溅射源正常工作时的最佳工艺参数,为磁约束磁控溅射源原理样机的结构改进提供依据.实验表明:磁控溅射靶稳定工作的电压范围是300～700 V,靶电流可达到1.2 A,最高工作真空度为2 Pa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	60	260	9.0	14.0
2	袁建奇	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	2	7	2.0	2.0
3	雷琳娜	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	2	3	1.0	1.0