直流反应磁控溅射制备Cu2O薄膜

• 作者: 朱海玲
• 来源期刊: 潍坊学院学报
• 学科: 化学
• 关键词: 直流反应磁控溅射 气体流量 溅射功率 溅射压力 Cu2O薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 111-114
• 分类号: O614.121
• 字数: 3901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4288.2010.04.031

摘要

采用直流反应磁控溅射的方法,在石英衬底上制备Cu2O纳米薄膜,研究了工艺因素中的溅射气压、氧分压、气体流量、溅射功率对薄膜结构、形貌的影响,从而确定了最佳溅射条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱海玲		7	6	1.0	2.0