退火温度对NZFO铁氧体薄膜磁性能的影响

• 作者: 朱剑博 訾振发
• 来源期刊: 合肥师范学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: NZFO铁氧体薄膜 化学溶液沉积法 矫顽力
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 20-22,39
• 分类号: TM277
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2273.2010.06.008

摘要

采用化学溶液沉积法在Si(001)衬底上制备Ni0.7Zn0.Fe2O4铁氧体薄膜,XRD谱表明样品具有单相的尖晶石结构;扫描电子显微镜结果表明样品平均颗粒尺寸随着退火温度的上升从10 nm增加到32 nm.NZFO铁氧体薄膜磁性能与退火温度有强烈的依赖关系,薄膜的矫顽力从退火温度为500℃时的25 Oe增加到900℃时的80 Oe,饱和磁化强度也由146emuu/cm3增加到283 emu/cm3,这对于现代电子器件微型化有着非常重要的意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	訾振发	合肥师范学院物理与电子工程系	15	30	4.0	5.0
2	朱剑博	合肥师范学院物理与电子工程系	4	9	1.0	3.0