斜角蒸镀光学薄膜工艺的研究

• 作者: 刘志宇 卫红 曹一鸣 王小辉 黄涌
• 来源期刊: 重庆科技学院学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 斜角蒸镀 阴影效应 表面扩散作用 动量守恒
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 物理·数学
• 页码范围: 189-191,195
• 分类号: O484
• 字数: 2175字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1980.2010.03.060

摘要

斜角蒸镀方法是制备光学薄膜的常用方法之一.试验证明,采用斜角蒸镀方法沉积薄膜,能改变薄膜晶体结构,从而使薄膜性能得到改变.在蒸发过程中,蒸发材料在基底上形成了倾斜的柱状结构薄膜,而且随着蒸镀过程入射角度的增加,薄膜柱状结构也发生了明显改变,本文结合试验结果对这些影响因素加以分析.通过控制薄膜生长的条件,包括沉积的材料和其它条件,能够将薄膜结构控制精确到10nm级别.在薄膜生长过称中,动量守恒和表面扩散作用是形成这种独特的柱状结构的主要原因.因此,如果能够采用工艺手段改变材料的结构来改变它的折射率,就能使光学薄膜的选材更加广泛,也能扩大光学薄膜应用范围.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王小辉		12	23	3.0	4.0
2	卫红		10	32	3.0	5.0
3	曹一鸣		14	16	2.0	3.0
4	刘志宇		7	13	2.0	3.0
5	黄涌		2	3	1.0	1.0