光刻机浸没液体控制系统的研究现状及进展

• 作者: 傅新 陈文昱 陈晖 陈颖
• 来源期刊: 机械工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 浸没式光刻机 浸没控制系统 浸没液体
• 年，卷（期）: 2010,（16）
• 页码范围: 170-175
• 分类号: TH137
• 字数: 5077字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3901/JME.2010.16.170

摘要

浸没式光刻机是目前在45 nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备.浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一片投影物镜和硅片之间,提供并维持具有高度洁净度与稳定性的缝隙流场,利用高折射率浸没液体,提高光刻分辨率.介绍浸没控制系统的技术背景、组成及其特点,论述国外在液体浸没方式、液体动态密封、流场检测与控制、曝光热效应和气泡控制等关键技术方面的研究成果以及国内自主研发的进展.针对浸没式光刻机向着更高光刻分辨率和更高生产率不断延伸的特点,对浸没液体控制系统的发展前景进行展望,指出其发展中面临的挑战与有待解决的关键技术,浸没液体控制系统将在浸没式光刻机的发展过程中继续扮演着重要角色.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅新	浙江大学流体传动及控制国家重点实验室	119	2269	24.0	43.0
2	陈颖	浙江大学流体传动及控制国家重点实验室	44	347	10.0	18.0
3	陈晖	浙江大学流体传动及控制国家重点实验室	60	309	11.0	14.0
4	陈文昱	浙江大学流体传动及控制国家重点实验室	4	26	2.0	4.0