正偏压对微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜的影响

• 作者: 唐伟忠 耿春雷 黑立富
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 酸碱两步法 微型钻头 正偏压
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 22-26
• 分类号: TQ164
• 字数: 2765字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2011.02.005

摘要

线形同轴耦合式微波等离子体CVD法是在硬质合金微型钻头(微钻)表面沉积金刚石涂层的最佳方法之一.本文首先研究了酸碱两步预处理后微钻表面的形貌和成分,然后研究了微钻工作表面金刚石的沉积情况,最后重点研究了正偏压对微钻不同位置金刚石生长的影响.结果表明,在微钻上施加50 V正偏压时,金刚石薄膜具有最佳的形貌和较好的均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
2	黑立富	北京科技大学材料科学与工程学院	39	153	6.0	10.0