磁控溅射SiC薄膜表面形貌演化行为研究

• 作者: 周细应 孙卿 陈晖
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: SiC薄膜 表面演化 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 32-36
• 分类号: TG73
• 字数: 2588字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2011.04.007

摘要

采用射频磁控溅射法在石英玻璃基底上沉积SiC薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜( AFM)观察薄膜的表面形貌,利用粗糙度和颗粒度大小对薄膜表面形貌动态演化进行量化表征.结果表明:在100～175 W溅射功率范围内,1 000℃高温真空退火处理能明显减小SiC薄膜表面粗糙度,膜层表面更为平滑,颗粒大小更为均匀；随着溅射功率的增大,颗粒度的总体变化呈现先增大后减小的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周细应	上海工程技术大学材料工程学院	114	777	15.0	25.0
2	陈晖	上海工程技术大学材料工程学院	10	192	6.0	10.0
3	孙卿	上海工程技术大学材料工程学院	3	4	1.0	2.0