光刻机浸没单元结构参数对流动状态的影响

• 作者: 傅新 赵金余 陈晖
• 来源期刊: 机电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 浸没式光刻 浸没单元 缝隙流场 流动仿真 计算流体动力学
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 机械与仪表技术
• 页码范围: 545-547,604
• 分类号: TH137
• 字数: 1732字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4551.2011.05.008

摘要

不同的浸没单元结构会影响缝隙流场的流动状态,为了研究浸没单元结构参数对缝隙流场流动的影响规律,通过计算流体动力学(CFD)仿真,对浸没流场的流动进行了数值模拟,开展了不同的浸没单元的注液口形状和流场高度所形成的缝隙流场的流动状态分析.研究结果表明:90°～150°的注液口和0.7mm～1 mm的缝隙高度为理想的结构参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅新	浙江大学流体传动与控制国家重点实验室	119	2269	24.0	43.0
2	陈晖	浙江大学流体传动与控制国家重点实验室	60	309	11.0	14.0
3	赵金余	浙江大学流体传动与控制国家重点实验室	2	7	1.0	2.0