ZnS衬底上二维亚波长结构抗反射表面的制备及性能研究

• 作者: 刘正堂 徐启远 李阳平 武倩
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二维亚波长结构 抗反射 反应离子刻蚀 刻蚀形貌
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 579-583
• 分类号: TN305.7|TN405.98
• 字数: 3167字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.05.14

摘要

采用接触式紫外光刻和反应离子刻蚀工艺在ZnS衬底上制备二维亚波长结构抗反射表面.在优化的光刻工艺下,以CH4、H2及Ar的混合气体为刻蚀剂,研究了刻蚀工艺对刻蚀速率和刻蚀形貌的影响.结果表明,刻蚀速率随着射频功率的增大线性增大,随着工作压强的增加先增大后减小,随着CH4含量的增大先增大后降低.功率过大会导致刻蚀产物发生二次沉积,CH4流量过高会导致聚合物的生成加剧,这些都会影响刻蚀形貌.最后在优化的刻蚀工艺下制备出了8～12 μm波段具有较好的宽波段增透效果的二维亚波长结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李阳平	凝固技术国家重点实验室西北工业大学材料学院	3	9	2.0	3.0
2	刘正堂	凝固技术国家重点实验室西北工业大学材料学院	7	21	3.0	4.0
3	武倩	凝固技术国家重点实验室西北工业大学材料学院	1	4	1.0	1.0
4	徐启远	凝固技术国家重点实验室西北工业大学材料学院	1	4	1.0	1.0