聚变堆中H刻蚀碳氢薄膜的分子动力学模拟

• 作者: 吕晓丹 宁建平 秦尤敏 苟富均 贺平逆 赵成利
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 分子动力学 碳氢薄膜 吸附 刻蚀
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 等离子体技术
• 页码范围: 320-325
• 分类号: O484
• 字数: 4405字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.03.14

摘要

使用分子动力学方法模拟了低能H原子与碳氢薄膜的作用过程,以了解基于核聚变装置中等离子体与C基材料的相互作用机制.模拟中使用REBO(reactive empirical bond order)势函数来描述C-H体系中原子间的相互作用,并使用Berendsen热浴来控制体系的温度.文中着重探讨了入射能量对低能H原子刻蚀碳氢薄膜的影响,入射能量分别为0.3,1,5和10eV.模拟结果显示随着入射能量的增加,H原子的吸附率增加,C原子和H原子的刻蚀率增加.同一能量下H原子比C原子更易发生刻蚀.通过讨论发现在H原子与碳氢薄膜作用过程中,当能量大于1 eV时,由于入射的H原子先沉积在表面并与表面原子发生反应形成碳氢化合物,然后在后续入射粒子的轰击下碳氢化合物在表面发生解吸附现象,从而导致了C原子的刻蚀,因此C原子的刻蚀发生主要是化学增强的物理溅射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕晓丹	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	15	59	4.0	7.0
2	赵成利	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	8	11	2.0	2.0
3	贺平逆	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	7	11	2.0	3.0
4	宁建平	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	6	18	2.0	4.0
8	秦尤敏	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	6	18	2.0	4.0
12	苟富均		1	2	1.0	1.0