制备参数对TbFeCo磁光薄膜性能的影响

• 作者: 张勇 张晋敏 田华
• 来源期刊: 重庆理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 TbFeCo薄膜 椭偏光谱 光学常数
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 机械·材料
• 页码范围: 75-81
• 分类号: O484.1
• 字数: 3545字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-8425-B.2011.01.015

摘要

对采用磁控溅射制备TbFeCo/Si、Ag/TbFeCo/Si系列薄膜的溅射工艺进行了研究,分析了,TbFeCo薄膜的生长机理,并对其光学性质、磁性质和磁光性质进行了分析.实验结果表明,不同压强对TbFeCo薄膜的成分比有明显的影响,确定了工作压强为2.0 Pa是适合的,这时制备的薄膜的成分原子比和靶的原子比最接近.用全自动椭圆偏振光谱仪测量了,TbFeCo薄膜在1.5～4.5eV的椭偏光谱,结果表明,随着工作气压、溅射功率和Ar气流量的变化,薄膜的光学性质均发生明显变化.对制备的Ag/TbFeCo/Si和TbFeCo/Si磁光薄膜的磁光性质进行了分析,结果表明,Ag保护膜对TbFeCo磁光薄膜的磁光性质会产生显著影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张勇	贵州大学科技学院	100	332	8.0	15.0
2	张晋敏	贵州大学理学院	47	261	7.0	15.0
3	田华	贵州大学理学院	11	75	4.0	8.0