溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

• 作者: 崔增丽 杨磊 邵剑波 郭继花 黄致新
• 来源期刊: 华中师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 GdTbFeCo 磁光性能 溅射功率
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 413-415
• 页数: 3页
• 分类号: TM271
• 字数: 1846字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-1190.2009.03.015

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72 mm溅射功率为75 W,溅射气压为0.5 Pa,薄膜厚度为120 12m时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966 Oe,克尔角为0.413 °.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄致新	华中师范大学物理科学与技术学院	104	350	10.0	14.0
2	郭继花	华中师范大学物理科学与技术学院	7	15	2.0	3.0
3	崔增丽	华中师范大学物理科学与技术学院	5	5	1.0	2.0
4	杨磊	华中师范大学物理科学与技术学院	16	38	4.0	6.0
5	邵剑波	华中师范大学物理科学与技术学院	2	1	1.0	1.0