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摘要:
碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌如粗糙度、显微镜下的表面状况的影响做了研究,通过实验结果给出了特定要求条件下硅片腐蚀的最佳方案.运用硅的化学腐蚀机理分析了表面腐蚀状况的原因.
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文献信息
篇名 碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 腐蚀 表面形貌 硅片
年,卷(期) 2011,(3) 所属期刊栏目 光伏制造与设备
研究方向 页码范围 28-30
页数 分类号 TN305.2
字数 1744字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.03.008
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1 孙俭 中国电子科技集团公司第四十六研究所 1 4 1.0 1.0
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腐蚀
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硅片
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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