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摘要:
随着电子产品向小型化、轻量化及薄型化发展,HDI (High Density Interconnect)印制电路板更多地开始选用二阶及二阶以上微埋盲孔.对HDI二阶微盲孔对位、填铜药水成分及工艺参数等进行研究,得出了填孔过程中各参数的选择原则,并获得了对位精度为50μm,Dimple(下陷)低于10 μm的二阶微盲孔HDI印制板.HDI印制板按照IPC-TM-650标准进行可靠性测试,结果显示产品各项指标合格,并达到了国际IPC—6016标准.
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文献信息
篇名 HDI印制板二阶微盲填孔的构建研究
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 HDI 微盲孔 二阶对位 填铜
年,卷(期) 2011,(10) 所属期刊栏目 研究与试剂
研究方向 页码范围 72-75
页数 分类号 TN312
字数 2869字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2011.10.019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 何为 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 200 994 12.0 23.0
2 王守绪 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 82 454 10.0 18.0
3 周国云 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 38 119 7.0 8.0
4 苏新虹 27 76 5.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
HDI
微盲孔
二阶对位
填铜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
5158
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16
总被引数(次)
31758
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