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摘要:
利用微波电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积(ECR-PECVD)采用一步法直接在K9玻璃上低温沉积制备了多晶硅薄膜.研究了不同实验参数对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等实验分析方法对不同条件下制备的样品进行了晶体结构和表面形貌分析,并讨论了多晶硅薄膜沉积的最佳条件.实验结果表明,玻璃衬底上多晶硅薄膜呈柱状生长,并有一定厚度的非晶孵化层;较高氢气比例和衬底温度有利于结晶,薄膜的结晶率达到了62%;晶粒团簇的最大尺寸约为500nm.
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文献信息
篇名 微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积法制备多晶硅薄膜
来源期刊 核聚变与等离子体物理 学科 物理学
关键词 电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积 低温 直接制备 多晶硅薄膜
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目 等离子体应用
研究方向 页码范围 356-361
页数 6页 分类号 O539
字数 3004字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孟月东 中国科学院等离子体物理研究所 40 478 9.0 21.0
2 舒兴胜 中国科学院等离子体物理研究所 21 149 7.0 11.0
3 陈龙威 中国科学院等离子体物理研究所 8 34 3.0 5.0
4 左潇 中国科学院等离子体物理研究所 3 7 1.0 2.0
5 魏钰 中国科学院等离子体物理研究所 2 6 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积
低温
直接制备
多晶硅薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
核聚变与等离子体物理
季刊
0254-6086
51-1151/TL
大16开
四川成都二环路南三段3号
62-179
1980
chi
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