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光明使者 畅通世界
世界
使者
电线电缆
价值传递
企业核心
制造商
集团
等离子体刻蚀中工艺参数对刻蚀速率影响的研究
感应耦合等离子体
干法刻蚀
复合钝化膜刻蚀工艺的探讨
钝化膜
等离子
刻蚀工艺
温度控制
偏压值对纳米刻蚀影响的研究
STM
纳米刻蚀
偏压值
高序石墨
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 刻蚀光明的未来
来源期刊 中国科技奖励 学科
关键词
年,卷(期) 2012,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 45-46
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字数 语种 中文
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相关学者/机构
期刊影响力
中国科技奖励
月刊
1672-903X
11-3085/G3
大16开
北京市西城区百万庄大街22号
80-347
1993
chi
出版文献量(篇)
6487
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2
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