RF MEMS电容式开关结构层释放技术

• 作者: 李玉萍 贾晓慧 赵兴海 郑英彬 高杨
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: RF MEMS 电容式开关 聚酰亚胺 释放
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 物理类传感器
• 页码范围: 322-325
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2287字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2012.03.008

摘要

研究了RF MEMS开关的制造工艺流程和聚酰亚胺牺牲层的去除工艺.在开关的设计和加工中采用在信号线两侧的地线上生长一层绝缘介质层,直流偏置线生成在绝缘介质层之上,与桥的锚点相连接,实现了交直流隔离.讨论了干法刻蚀和湿法刻蚀牺牲层技术.干法刻蚀容易造成绝缘介质层的刻蚀和损伤.采用湿法刻蚀结合临界点干燥技术,可以获得理想的微梁结构.通过测试,开关样品的下拉电压为34 V～40 V,下拉距离为(1.7±0.2)μm,满足设计要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高杨	中国工程物理研究院电子工程研究所	150	833	13.0	19.0
2	赵兴海	中国工程物理研究院电子工程研究所	34	240	9.0	14.0
3	郑英彬	中国工程物理研究院电子工程研究所	22	115	7.0	9.0
4	李玉萍	中国工程物理研究院电子工程研究所	2	9	2.0	2.0
5	贾晓慧	西南科技大学信息工程学院	1	4	1.0	1.0