磁控溅射MoO3半导体功能薄膜的制备与结构性能研究

• 作者: 刘云辉 王波
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: MoO3薄膜 射频磁控溅射 微结构 接触角
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 60-63
• 分类号: TB43|TN305
• 字数: 3097字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-023X.2012.08.016

摘要

采用射频磁控溅射技术分别在Si(100)和玻璃衬底上通过调整不同的溅射功率和退火温度成功制备了MoO3薄膜.利用X射线衍射、扫描电镜、紫外可见光分光光度计、接触角测量等进行了表征和分析.X射线衍射表明400℃以上沉积的MoO3结晶薄膜属正交晶系,沿(0k0)(k=2n)取向择优生长,衍射峰强度和薄膜的结晶度随溅射功率的提高逐渐增强；利用扫描电镜观察表面形貌,发现结晶的薄膜表面发生了不同程度的变化,由初期均匀分布的纳米细长状颗粒长大成二维片状结构；紫外可见光分光光度计测试表明,薄膜在可见光区具有良好的光学透过性,平均透过率达60％以上；接触角测量发现薄膜呈明显亲水性,通过后续的表面氟化改性热处理,实现了薄膜亲水-疏水的润湿性能转换.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王波	北京工业大学材料科学与工程学院薄膜材料与技术实验室	80	638	11.0	23.0
2	刘云辉	北京工业大学材料科学与工程学院薄膜材料与技术实验室	1	2	1.0	1.0