HF蚀刻+逐层抛光法表征熔石英亚表面损伤层深度

• 作者: 易葵 杨明红 赵元安 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 亚表面损伤 HF蚀刻+逐层抛光法 疏松研磨剂研磨 磁流变抛光
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 激光加工与应用
• 页码范围: 88-93
• 页数: 6页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201239.0303007

摘要

脆性材料的研磨过程会不可避免地产生亚表面损伤层,对亚表面损伤层的表征和抑制一直是获得高激光损伤阈值熔石英光学元件的关注热点.回顾了几种亚表面有损表征技术,通过实验重新评价了蚀刻表面峰谷(PV)粗糙度法的可行性,分析了其误差较大的原因.在此基础上,提出了一种新的亚表面损伤层深度检测方法——HF蚀刻+逐层抛光法.分别采用这两种表征技术以及粗糙度估计法、磁流变斜面抛光法对不同工艺研磨的熔石英亚表面裂纹深度进行了对比检测,结果表明这几种表征方法相互符合很好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0
4	杨明红	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	0	0.0	0.0