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摘要:
共晶焊是微电子组装技术中的一种重要焊接工艺,在混合集成电路中得到了越来越多的应用。文中简要介绍了共晶焊接的原理,分析了影响薄膜基板与芯片共晶焊的各种因素,并且选用Ti/Ni/Au膜系和AuSn焊料,利用工装夹具在真空环境下通入氮、氢保护气体的方法进行薄膜基板芯片共晶焊技术的研究。
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薄膜基板芯片共晶焊技术研究
共晶焊
空洞
剪切强度
接触电阻
采用新型多层基板的多芯片组件封装技术
多芯片组件
交调噪声
同时切换噪声
混合电路基板与外壳的共晶焊技术
混合电路
基板
共晶
微组装
薄膜金属化低温共烧陶瓷基板的阻碍层对共晶焊的影响
低温共烧陶瓷基板
薄膜金属化
共晶焊
阻碍层
剪切强度
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 薄膜基板芯片共晶焊技术研究
来源期刊 电子元器件应用 学科 工学
关键词 共晶焊 空洞 剪切强度 接触电阻
年,卷(期) 2012,(10) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 21-25
页数 5页 分类号 TN605
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 巫建华 中国电子科技集团公司第43研究所 5 41 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
共晶焊
空洞
剪切强度
接触电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元器件应用
月刊
1563-4795
大16开
西安市科技路37号海星城市广场B座240
1999
chi
出版文献量(篇)
5842
总下载数(次)
7
总被引数(次)
11366
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