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193nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究
193nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究
作者:
王平
王汝冬
王立朋
田伟
隋永新
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
应用光学
193nm光刻
运动学支撑
光学检测
有限元法
摘要:
光刻是大规模集成电路制造过程中最为关键的工艺,光刻的分辨力主要取决于光刻投影物镜的光学性能.光刻投影物镜光学元件面形精度为纳米量级,其对光学元件的加工及物镜单镜支撑提出了极高的要求.为193 nm光刻投影物镜高精度的单镜面形,设计了一种运动学单镜支撑结构.运用有限元法(FEM)分析光刻投影物镜单镜运动学支撑结构在重力下物镜镜片的面形变化量,经分析物镜镜片的峰值(PV)值为15.46 nm,均方根(RMS)误差为3.62 nm.为了验证有限元计算精度,建立了可去除参考面面形及被测面原始面形的方法.经过分析对比,仿真结果与实验结果面形的PV值为2.356 nm,RMS误差为0.357 nm.研究结果表明,所设计的基于运动学193 nm光刻投影物镜单镜支撑结构能够满足193 nm光刻投影物镜系统对于物镜机械支撑结构的要求.
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公差分析
内容分析
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引文网络
相关学者/机构
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文献信息
篇名
193nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究
来源期刊
中国激光
学科
物理学
关键词
应用光学
193nm光刻
运动学支撑
光学检测
有限元法
年,卷(期)
2012,(8)
所属期刊栏目
光学设计与制造
研究方向
页码范围
221-226
页数
6页
分类号
O439
字数
语种
中文
DOI
10.3788/CJL201239.0816002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
田伟
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
33
217
9.0
14.0
2
王平
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
192
2203
24.0
40.0
3
王汝冬
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
10
23
3.0
4.0
4
王立朋
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
11
39
4.0
6.0
5
隋永新
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
71
495
11.0
19.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(38)
共引文献
(98)
参考文献
(9)
节点文献
引证文献
(0)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
1992(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1993(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1996(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
1998(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1999(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2001(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2003(1)
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2004(1)
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二级参考文献(2)
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二级参考文献(10)
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参考文献(1)
二级参考文献(4)
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参考文献(3)
二级参考文献(6)
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参考文献(5)
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2012(0)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
应用光学
193nm光刻
运动学支撑
光学检测
有限元法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
主办单位:
中国光学学会
中科院上海光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7025
CN:
31-1339/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
邮发代号:
4-201
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
105193
期刊文献
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