射频磁控溅射制备类金刚石薄膜

• 作者: 张锋 梁志敏 翟建广
• 来源期刊: 上海工程技术大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 类金刚石薄膜 膜基结合力
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与生态化工
• 页码范围: 244-247
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2279字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在Si和Ti合金基体上沉积出类金刚石(DLC)薄膜.利用拉曼光谱仪、划痕仪和扫描电子显微镜分析了DLC薄膜的结构、膜基附着力和表面形貌.结果表明:射频磁控溅射法能够制备出表面平整、结构致密的DLC薄膜;同时基体材料的不同不会影响DLC薄膜的键合结构,Si基体上涂层附着力为30N,Ti基体上膜基结合力大于40 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟建广	上海工程技术大学材料工程学院	16	22	2.0	4.0
2	梁志敏	上海工程技术大学材料工程学院	2	4	2.0	2.0
3	张锋	上海工程技术大学材料工程学院	5	16	2.0	3.0