低温下磁控溅射AIN薄膜择优取向研究

• 作者: 徐阳 杜波 杨杰 石玉 马晋毅
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: AIN薄膜 衬底温度 结构 形貌
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 压电功能材料
• 页码范围: 273-275
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2519字
• 语种: 中文

摘要

研究了衬底温度从-20～20℃下射频磁控溅射A1N薄膜的择优取向程度.利用X线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和场发射电子显微镜(FESEM)对A1N薄膜的晶体结构、租糙度及表面和断面形貌进行了分析.研究结果表明,当衬底温度低于0℃时,AIN薄膜中的(100)衍射峰消失,A1N薄膜以(002)面择优取向生长.当衬底温度降低时,AIN薄膜的晶粒大小和表面粗糙度减小.AIN薄膜在0℃下沉积具有最佳的择优取向程度和较低的表面粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨杰	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	9	31	3.0	5.0
2	石玉	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	79	346	9.0	14.0
3	马晋毅		25	52	3.0	5.0
4	徐阳		21	32	3.0	4.0
5	杜波		21	54	4.0	5.0