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摘要:
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式.针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DOE进行了具体的设计.仿真分析了采用常规重复分区方法和混合分区方法的两类设计结果,并对它们的远场光强分布进行了详细的比较分析.在相同的局部优化算法条件下,相对于常规重复分区方法的设计结果而言,混合分区方法设计的DOE可使传统照明模式的非均匀性从26.45%下降到1.12%,二极照明模式的非均匀性从19.93%下降到5.45%,四极照明模式的非均匀性从17.73%下降到3.54%.混合分区设计方法无需改变局部优化算法,在保持高衍射效率的同时能大幅度提高光瞳均匀性.
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文献信息
篇名 用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计
来源期刊 中国激光 学科 物理学
关键词 光学设计 衍射光学元件 混合分区设计 迭代傅里叶变换 光瞳整形 投影光刻
年,卷(期) 2013,(6) 所属期刊栏目 160光学设计与制造
研究方向 页码范围 308-312
页数 5页 分类号 O438
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL201340.0616001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 黄惠杰 中国科学院上海光学精密机械研究所 69 544 13.0 23.0
2 曾爱军 中国科学院上海光学精密机械研究所 33 188 8.0 13.0
3 杨宝喜 中国科学院上海光学精密机械研究所 17 1 1.0 1.0
4 朱菁 中国科学院上海光学精密机械研究所 12 4 1.0 2.0
5 胡中华 中国科学院上海光学精密机械研究所 5 0 0.0 0.0
6 肖艳芬 中国科学院上海光学精密机械研究所 4 0 0.0 0.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
光学设计
衍射光学元件
混合分区设计
迭代傅里叶变换
光瞳整形
投影光刻
研究起点
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中国激光
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0258-7025
31-1339/TN
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