磁控溅射沉积薄膜预溅射时间的光谱诊断

• 作者: 崔永亮 张磊 张金平 李旭 范青 董开虎 郭庆林 陈金忠
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 化学
• 关键词: 等离子体发射光谱 光谱分析 磁控溅射 预溅射时间
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 595-599
• 页数: 5页
• 分类号: O657
• 字数: 3435字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593(2013)03-0595-05

摘要

利用Omni-λ300系列光栅光谱仪、CCD数据采集和处理系统以及光纤导光系统等构成的等离子体光谱分析系统,实现了实时获取射频磁控溅射过程中等离子体光谱,分别对NiTa,TiAl陶瓷靶,NiAl,TiAl合金靶四种靶材的磁控溅射过程产生的等离子体进行监测,以TaⅡ333.991nm,NiⅠ 362.473nm,AlⅠ 396.153nrn和TiⅠ 398.176nm为分析线,获得了分析谱线强度随时间的变化规律,并以此为依据确定了预溅射时间,同时研究了不同溅射功率和压强对预溅射时间的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭庆林	河北大学物理科学与技术学院	129	861	16.0	21.0
2	张金平	河北大学物理科学与技术学院	37	110	6.0	8.0
3	崔永亮	河北大学物理科学与技术学院	5	8	2.0	2.0
4	张磊	河北大学物理科学与技术学院	50	144	5.0	11.0
5	李旭	河北大学物理科学与技术学院	104	934	18.0	26.0
6	董开虎	河北大学物理科学与技术学院	3	3	1.0	1.0
7	范青	河北大学物理科学与技术学院	2	2	1.0	1.0